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 | | 名稱(chēng)：超純氨氣 型號(hào)： | |  |  | |
高純氨
高純氨主要應(yīng)用于新型光電子材料領(lǐng)域，是MOCVD技術(shù)制備GAN的重要基礎(chǔ)材料。由GAN生產(chǎn)高靈敏度藍(lán)光發(fā)光二級(jí)管和藍(lán)光激光器，以及其它相關(guān)電子器件，是國(guó)內(nèi)外都在搶占的產(chǎn)業(yè)。高純氨還是制備三氟化氮、氮化硅、的基礎(chǔ)材料，是生產(chǎn)超高級(jí)氮的原料氣。此外，液氨廣泛地應(yīng)用于半導(dǎo)體工業(yè)、冶金工業(yè)，以及需要保護(hù)氣氛的其他工業(yè)和科學(xué)研究中。
| 商品詳細(xì)介紹 |
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| A colorless,toxic,flammable,corrosive,liquefied gas.（一種無(wú)色，有毒，可燃，具腐蝕性的可液化氣體） |
| Formula(分子式)： |
NH3 |
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| Molecular weight(分子量): |
17.03g/mol |
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| Boiling point(沸點(diǎn)): |
-33.4℃ |
28.1°F |
| Melting point(熔點(diǎn))： |
-77.7℃ |
107.9°F |
| Vapor pressure(蒸汽壓): |
888KPa（21.1℃） |
129Psia(70°F) |
| Specific volume(比容): |
1.41m3/kg(21.1℃,101.325KPa） |
| 22.6ft3/lb(70°F,14.696psia) |
| Lower Flammable Limit(最低可燃性含量)： |
15% |
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| Upper Flammable Limit(最高可燃性含量)： |
30% |
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| Threshold Limit Value（人體的最高容許濃度）: |
25ppm |
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| DOT Classification(DOT類(lèi)別): |
2.2(Flammable Gas)(可燃性氣體) |
| DOT Lable(DOT標(biāo)簽): |
FLAMMABLE GAS(可燃性氣體) |
| 電子工業(yè)用氣體 氨（GB/T14601-2009) |
| 項(xiàng)目名稱(chēng) |
電子級(jí) |
光電子級(jí) |
| 氨（NH3）純度（體積分?jǐn)?shù)）/10-2 ≥ |
99.9995 |
99.99994 |
| 氧（O2）含量（體積分?jǐn)?shù)）/10-6 ＜ |
1 |
0.1 |
| 氮（N2）含量（體積分?jǐn)?shù)）/10-6 ＜ |
1 |
— |
| 氫（H2）含量（體積分?jǐn)?shù)）/10-6 ＜ |
— |
0.1 |
| 一氧化碳（CO）含量（體積分?jǐn)?shù)）/10-6 ＜ |
1 |
0.05 |
| 二氧化碳（CO）含量（體積分?jǐn)?shù)）/10-6 ＜ |
— |
0.1 |
| 烴（C1～C3）含量（體積分?jǐn)?shù)）/10-6 ＜ |
1 |
0.05 |
| 水分（H2O）含量（體積分?jǐn)?shù)）/10-6 ＜ |
3 |
0.2 |
| 總雜質(zhì)含量（體積分?jǐn)?shù)）/10-6 ≤ |
5 |
0.6 |
| 應(yīng)用：晶圓清洗、在CVD過(guò)程中生成氮化硅或氮化鎵等薄膜 |
| | | 點(diǎn)擊次數(shù)：2890 |  |
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